第三百二十一章 光有波粒二象性（2 / 2）

考古式科研。

对于李兴的话，郑南脑中突然冒出这个后世互联网上经常用于调侃的词汇，现在郑南居然有了深刻的沉浸式体验。

好家伙，这些电子厂为了单纯的追求效益，究竟放弃了多少先进技术。

“不管怎么说，李主任你现在的任务就是先把用接触式光刻机生产18微米芯片的技术方案搞定，不行我们把剩下那些原本作为备用的镜片也全用上，多造几台光刻机，拿数量弥补一下吧。”郑南说。

这是没办法的办法，郑南信任庄卫的技术，只要这些镜片不被人为损坏，至少使用半年以上是没问题的。

李兴告诉郑南光具有波粒二象性，或许眼睛看起来光是一条直线，可当光穿过窄缝，就是呈现水波纹一样的扩散特性。

“简单说就是光在穿过一微米的窄缝以后，马上就会扩大到两微米甚至更大，甚至光掩模抬的距离越高，扩散的范围也会越大，这样反而还没原来的制程精细了。”

李兴还说光在通过几个相邻的窄缝，还会发生自己跟自己干涉的现象，导致成像更加模糊不清。

郑南扶额，看来自己对光刻机还有芯片制造工业的了解还是浅显了，没想到只是一个制程推进，居然还牵扯到了当年逼疯爱因斯坦大佬的光的波粒二象性和双缝干涉实验上，那可是连爱因斯坦这种级别的大佬都没辙的玩意。

直接点说，就是接触式光刻法，良品率无法保证；但要是抬起来光掩模不接触光刻，精度又无法保证，简直鱼与熊掌不可兼得。原本郑南还很雄心勃勃，想着自己能跟那些重生网文的主角一样，轻松搞出光刻机来。

而半年以后，庄卫那边超精磨床到货，新一代镜片不好说，但至少65光刻机的镜片他就能批量生产，就没问题了。

至于下一代非接触光刻机的设计图纸和材料那些，郑南只能另外想办法了。

李兴郑重点头，表示目前光刻难度在光掩模的制造上：“不过关于更精细的光掩模制作，我已经想到了方案，接下来我再进行几轮论证，不出意外肯定能赶上MS6502芯片的生产任务。”

现在别说后世的深紫外极紫外光刻机了，就一个光的波粒二象性就能轻松卡死自己，遥想自己曾经看的那些轻松造光刻机的网文，那真是对光学系统甚至是最基本的光学芯片知识都完全无知呀！

这板马日的不是白耽误自己重生的工夫吗？

郑南很想骂娘。

郑南并没有放弃：“所以李主任，我们现在当务之急是必须购买一台国外的新式光刻机，参考他们的设计思路吗？”

李兴点头说是：“但也不是绝对的，因为当年光刻机项目下马前，听说燕都那边已经绕过波粒二象性和双缝干涉特性，搞出投影式光刻机的设计思路了，如果我们能拿到设计图纸或者材料，我们继续深化研究，应该也能造出不接触的投影光刻机。”